第307章 总算不用被念叨了

    一时之间，韩熹心里复杂极了。
    一方面是觉得有些挫败，自己带团队磨了大半年的东西，被肖宿隨隨便便用这种降维打击的方式就做完了。
    而另一方面，又感到一种窗户纸被捅破了之后的畅快，以前在雾里摸索方向，现在有了地图，就知道该往哪儿走了。
    他揉了揉发酸的眼睛，把笔记放下，对坐在旁边的邹杨说道：
    “很详细了，儘快把进度上报吧。”
    邹杨点头：“明白，明天早上我就写个报告交上去。”
    “嗯，另外，和贺总师那边也通个气。
    他们做超燃衝压仿真遇到的流场曲率奇异问题，和这篇论文里说的法旗方向曲率发散是同源的。
    如果他们还没联繫的话，我们可以两个单位一起行动，效率会更高。”
    邹杨点头记下，先回去写报告了。
    房间里再次安静下来，韩熹坐了一会儿，还有些愣神。
    他在这个领域做了一辈子了，比谁都清楚流体力学基础理论的突破对推进技术的推动有多大。
    肖宿这篇论文证明的不只是一个数学猜想的正確性，它等於给所有和流体相关的工程领域重新铺了一层地基。
    只要把论文中嵌入曲率分解和分层筛法的那部分理论用到他们的磁场优化上，如果顺利的话，壁面腐蚀速率有望再降一个台阶。
    而这个台阶一过，霍尔推进器的寿命就能够上一趟深空任务了。
    肖宿，远比他想像的还要出色啊。
    ……
    京大，別墅区的隔音做的很好，肖宿的书房静悄悄的，只有他敲击键盘的脆响。
    他桌上摊著一叠刚从印表机里拉出来的文献，旁边是那张画满了谱域对消框架推导的草稿纸。
    下午他已经把隱身衣的理论框架主体部分全部做完了，现在还有几个工程实现的细节还需要推敲，他正在往第四节工艺误差的鲁棒性分析里填入新的引理。
    书房的门被轻轻敲了两下。
    “肖教授，您之前要的材料准备好了。”
    高长安推门进来，手里拿著一个厚度不小的文件袋，袋口封得规规整整的。
    他把文件袋放在书桌上。
    肖宿打开文件袋，抽出一叠列印好的报告。
    这些报告已经被高长安按子领域分好类別了，內容也很齐全，几乎涵盖了全部超材料隱身研究课题组的最新实验进展。
    超材料的介电常数、磁导率调控数据、纳米天线的製备工艺……
    每一项內容后面还都附了原始文献的摘要和关键数据的匯总表。
    肖宿快速翻了翻，很快翻到有源超表面天线那一节，目光停在了调控带宽的数据上。
    鈮酸鋰薄膜的调製频率上限在几十吉赫兹量级，石墨烯等离激元调製器在实验室条件下做到了將近两百飞秒的响应时间，但均匀性指標一栏標註著一个明显的“不达標”字样。
    和他之前在论文里估算的结论基本吻合。
    肖宿把这份材料放到一边，正打算继续翻下一份，发现高长安还站在书桌旁边。
    他抬起头，有些疑惑的看了高长安一眼。
    高长安的表情和平时不太一样，嘴唇动了动，又抿著，好像有什么话想说又说不出口。
    “怎么了？”
    高长安迟疑了一下，目光在肖宿桌上那堆超材料的文献上扫了一圈。
    “肖教授，您现在研究的东西，是不是……也和光刻有关？”
    肖宿点了点头。
    超材料隱身衣的核心就是纳米天线阵列，无论是走哪一种工艺路线，归根到底都是要靠微纳加工来做的。
    电子束光刻、纳米压印、自组装，每一种都离不开高精度的光刻或类光刻工艺。
    从这个角度来说，研究隱身衣本身就是在研究光刻技术的应用延伸。
    高长安得到这个肯定的答覆之后，没再多说什么，而是又从隨身的公文包里抽出一个深蓝色的文件夹，递到了肖宿面前。
    肖宿翻开一看，是一份关於国產深紫外光刻系统关键子系统研製进展的报告。
    他往下翻了几页，发现內容很简略，就是从整体上勾勒出了目前国產光刻系统研发的大致格局，然后提到了国產深紫外光刻系统关键子系统研製项目组。
    简单来说，这是一个专项由科技部牵头，联合了国內几家最具实力的微电子研究所和精密光学研究单位共同攻关的实验课题。
    其中，沪城微电子研究所承担了核心光学系统的设计任务，长光精密光学研究所负责物镜系统的加工与装调，另外还有几家单位分別负责光源、工件台和浸没系统的研发。
    这套被寄予厚望的国產光刻系统，对標的是国际上已经成熟应用多年的193纳米浸没式光刻平台，目標是实现从光源到物镜到工件台的全系统自主可控……
    前面那些光刻系统的技术架构肖宿並不陌生，193纳米浸没式光刻在国际上已经成熟应用很多年了，那些光学系统的底层理论框架没什么特別的，肖宿扫了几眼就大致了解他们的设计思路了。
    这些没什么可看的，他很快就翻完了，视线停在了报告最后一页上。
    这里他们重点写了几个这个实验目前遇到的瓶颈。
    光学系统的波像差一直压不到目標值以下，导致解析度无法稳定满足工艺节点的要求……
    工件台的定位精度虽然在静態测试中达標，但在高速扫描状態下的动態跟踪误差始终偏大，影响曝光效率……
    照明系统的空间相干性均匀度差，多次调整光学设计都没能彻底改善，直接限制了成像对比度……
    这上面的几个问题还只是子系统层面的。
    当所有子系统联调联试的时候，各单元之间的耦合误差还会进一步叠加放大。
    也就是说，整个系统的综合性能距离实用化还是有相当一段距离的。
    肖宿把匯报翻完，抬眼看向高长安。
    高长安不等他开口，连忙解释道：
    “肖教授，这个是科技部牵头的光刻机专项研究报告，目前国內几家顶尖的光刻机研究所，还有沪城微电子研究所，都在参与这个项目，只是……一直没有太大进展，遇到了一些技术瓶颈，他们知道您最近对光学感兴趣，就想请您帮忙看看。”
    原来是想让他帮忙。
    肖宿点点头，但是没有立刻答覆。
    他重新翻开文件夹，翻到光学系统那一节，目光在波像差的描述段落上停了一会儿。
    光刻物镜的波像差本质上是一个光学传递函数的相位偏差问题，而相位偏差的来源是物镜系统中几十片透镜的加工误差和装调误差的叠加。
    在传统的光学工程中，波像差的校准靠的是对每一片透镜的六个自由度进行逐片微调，然后反覆测量验证，是一个典型的“调一调，看一看”的试凑过程。
    但如果把整个物镜系统看作一个辛流形上的哈密顿系统，镜片组的装配自由度对应位形空间，波前误差对应哈密顿量，那波像差的最优校准就等价於在辛流形上寻找哈密顿量的极小值了。
    而他已经在超材料设计的谱域对消框架里搭好了类似的最优逼近思路，把那里的控制论方法挪过来，也许能给出一个更系统的校准方案。
    从方向上来说，可行。
    但具体到他们遇到的那些数值指標到底能不能压下去，得亲眼看看实际的装调数据和测试环境才能判断。
    光刻系统改进之后，后期他的隱形材料製作也能快很多了。
    “可以，”肖宿说。
    高长安明显鬆了一口气，语速都比平时快了半分。
    “好的，那您大概什么时候方便？”
    肖宿还要抓紧研究隱身衣，自然是越快越好。
    “明天早上。”
    “太好了，刚好明天上午沪城微电子的人这几天在京城的研发中心做联调测试，设备和技术人员都在，我这就安排。”
    肖宿把文件夹放在桌上那堆超材料文献的旁边。
    “嗯。”
    高长安看著肖宿专注的身影笑了笑，转身出去安排的时候，脚步比进来时明显轻快了不少。
    他总算不用再被高长平念叨了。