灵感爆发卡，赵阳也没准备现在用。
他站起身来，活动了一下肩膀，骨节在肩胛后轻微地噼啪响了两声，整个人非常舒服。
在基数足够大的情况下，哪怕只是提升两点体魄，都让赵阳很舒服！
来到地下室，小新的主屏幕正在跑白鼠运动耐力的第十二周数据。赵阳扫了一眼曲线图。
“最近进展怎么样？”
“实验组运动耐力时长稳定维持在对照组的一点七倍，血清活性氧水平下降幅度在统计上持续显著。动物体重、臟器指数和血液生化指標没有出现异常偏移。”
小新的声音从控制台音响里传出来，平稳得没有任何波澜。
“基因编辑模块的载体稳定性和脱靶率分析还在跑，预计还需要两到三周完成全部验证。”
赵阳点了点头。他拉开椅子坐下来，调出自己的系统面板看了一眼。目前还没有达到lv5的学科，只剩下了生物学和语言学。生物学距离lv5只差两万多经验值，也就是一篇具有重大意义论文的事。
他想了想，没准备继续去顾明实验室做论文。耐盐碱水稻那个项目已经收尾了，后续的秈稻验证是中科院遗传所在做，短时间內不太可能產出什么重量级的新论文。
他打算直接用自己这个私人实验室的数据写一篇。这段时间的基因研究，哪怕不碰涉及自己身体数据、自己血液基因这些敏感数据的部分，单是已经跑完的那些动物实验结果，已经足够攒出一篇质量不错的论文了。
按赵阳的理解，这篇论文的价值不低，但够不够一次性补齐两万多的经验缺口，他也没有十足的把握。不管怎么说，先把论文整理出来再说。
他打开文档编辑器，开始整理论文框架。標题暂时擬为《基於定向进化的sod2突变体在哺乳动物模型中增强抗氧化能力的机制研究》。
摘要部分花了他大概半小时，正文部分从实验设计、载体构建、动物模型建立一路写到运动耐力测试和血清生化分析，数据图表全部从小新的实验日誌里直接调取。
这篇论文的核心结论很明確sod2基因的特定位点突变能够在哺乳动物体內显著提升抗氧化能力，且未观察到明显的负面生理影响。至於这个突变体是怎么来的，论文里只含糊地写成“通过定向进化筛选获得”，具体来源一个字都没提。
论文写到一半，手机响了。赵阳看了一眼来电显示，是梁孟松。
“梁博士。”
赵阳放下手里的键盘接了电话。
“老板。”
梁孟松的声音听上去有些疲惫，但更多的是压著火的无奈，
“晶片量產出了点问题。光刻机那边有几个关键参数的校准一直过不去，我们的工程师已经调了好几轮了，套刻精度始终稳不住。这些问题本来应该由阿斯麦那边的现场工程师来解决，但你知道，我们这批光刻机的情况比较特殊。”
赵阳当然知道。这批光刻机是通过小新在新加坡的壳子公司採购的，最终目的地被悄悄改到了龙国大陆。
阿斯麦那边至今以为这批设备还在新加坡的裕廊工业区里，根本不知道它们已经被装进了昌城的晶圆厂。这种情况下，让阿斯麦派工程师过来是不可能的。
“具体是什么参数稳不住？”
赵阳问道。
“主要是套刻精度。二十八纳米节点的套刻精度要求控制在三点五纳米以內，我们目前只能做到五点几，差了近两个纳米。另外光源的均匀性也有波动，曝光场边缘的剂量比中心低了將近两个百分点。我们的工程师已经把所有能调的机械参数都调了一遍，就是过不去。”
赵阳沉默了片刻。他前世在晶片行业摸爬滚打了十几年，虽然不是专门搞光刻工艺的，但各种技术问题接触得多了，光是旁观就积累了不少经验。
“我去看看。明天上午飞昌城。”
赵阳说。
电话那头安静了大概两秒。梁孟松原本打这个电话的目的是想让赵阳尝试去挖几个阿斯麦的工程师，或者从台积电那边挖人。
这样做的话代价会很高，但总比设备停在那里强。他完全没想到赵阳会说“我去看看”。
不是，自家老板虽然是天才，但什么时候懂光刻机了？
梁孟松有些傻眼。
“老板，你……你过来看？”
梁孟松迟疑著问道。
“这些参数校准涉及到光学对准系统和工件台的精密调节，一般都是原厂工程师才有经验处理…………”
梁孟松话音还没落下就被赵阳打断了。
“我知道。明天上午到。”
赵阳没有多解释。梁孟松沉默了一会儿，说了声好。
掛了电话之后赵阳把写到一半的论文保存好，从衣架上拿了件外套，然后给王海发了条消息，让他订明天最早的航班。
第二天上午九点，赵阳的航班降落在昌城机场。出站口外面，除了梁孟松和工厂的两位副总之外，昌城市的几位领导也在。张副市长站在最前面，看到赵阳从出站口走出来，立刻笑著迎了上去。
“赵博士，欢迎回昌城！上次跟你聊过晶片工厂的事，我们全市上下都特別重视这个项目。这次听说你要亲自过来处理技术问题，我就想著一定要来迎接一下。”
张副市长握著赵阳的手，语气里带著几分期待。
赵阳跟他握了握手：“张市长客气了。”
几个人在出站口寒暄了几句。张副市长又提到上次討论过的优惠政策和配套宿舍的事，说市里已经在落实了，让赵阳放心。赵阳点了点头，说改天有空再细聊，然后就跟梁孟松上了车。
车子驶出机场，往工厂方向开。王海坐在副驾驶，赵阳和梁孟松坐在后排。
“具体说说。”
赵阳靠在座椅上，转头看著梁孟松。
“问题主要集中在两个地方。”
梁孟松打开手里的平板电脑，调出几张设备参数截图递给赵阳。
“第一个是套刻精度。我们目前能做到五点三纳米，二十八纳米节点要求三点五以內。第二个是光源均匀性。曝光场边缘的剂量比中心低大概一点八个百分点，导致边缘区域的线条宽度偏粗。”
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